В России создали плазму для получения экстремального ультрафиолетового излучения

Такой ультрафиолет открывает новые возможности для микроэлектроники

Российские физики сумели получить горячую и плотную плазму, способную излучать в диапазоне экстремального ультрафиолета. Такой источник необходим для новых отечественных литографов — устройств, задействованных в производстве микросхем.

Экстремальный ультрафиолет применяется при формировании микрочипов на кремнии. В настоящее время производители микроэлектроники используют фотолитографию, и для дальнейшего уменьшения размеров чипов требуется технология продвинутого уровня. Новая российская плазма, созданная в Институте ядерной физики СО РАН, открывает возможности для реализации этой технологии. Чтобы обеспечить стабильность плазмы, учёные ограничили её в объёме, а для поддержания использовали импульсно-периодическое излучение. Следующая задача — увеличить мощность в два–четыре раза.

Технология найдёт широкое применение в российской микроэлектронике, в том числе в компактных установках, использующих генераторы электромагнитных колебаний СВЧ-диапазона. Поскольку эти устройства передают излучение узким волновым пучком, открытие российских физиков существенно расширяет возможности их применения.