Собственный литограф — путь к технологической независимости

«Сердце» микроэлектронного производства

Россия официально приступила к разработке собственного литографического оборудования — ключевого звена в производстве микросхем. По словам научного руководителя Национального центра физики и математики, академика Александра Сергеева, сейчас проводится техническое обоснование и налаживается сотрудничество между ведущими институтами, включая Институт физики микроструктур РАН, и госкорпорациями «Роскосмос» и «Росатом». Национальный центр физики и математики будет способствовать реализации этого проекта, а курирует работу Минпромторг России.

Литограф — не просто станок, а «сердце» микроэлектронного производства. Без него невозможно выпускать чипы, которые используются в самых разных областях — от смартфонов до ракетных систем. Сегодня мировой рынок литографического оборудования почти полностью контролируется компаниями ASML, Nikon и Canon. Санкции и экспортные ограничения сделали доступ к их технологиям крайне затруднительным. В этих условиях создание отечественного литографа становится важнейшей мерой по обеспечению технологического суверенитета страны.

Впереди — создание альфа-машины

На данный момент проект находится на самой ранней стадии. Аванпроект — это своего рода предварительный прототип, появившийся после концептуальной проработки: какие технологии и компоненты могут быть использованы, какая кооперация требуется между участниками.

Следующий этап — создание альфа-машины, то есть демонстрационного образца. Альфа-машина (в случае с литографом) — это первый полнофункциональный демонстрационный макет или образец оборудования (alpha prototype), на котором отрабатываются основные принципы работы. От других типов прототипов альфа-машины отличаются более высокой тактовой частотой и поддержкой большего объёма памяти по сравнению с конкурирующими рабочими станциями и серверами.

«Это проект, в котором планируют участвовать несколько крупнейших учреждений “Росатома” и академических институтов. Речь идёт о литографе на основе лазерно-плазменного взаимодействия, когда у вас есть мощный лазер и мишень в форме капли вещества или струи газа, которые, превращаясь в плазму, становятся источниками рентгеновского излучения. Здесь чрезвычайно важны высокоотражающие рентгеновские зеркала, поскольку они позволяют концентрировать, транспортировать и “рисовать” с помощью этого излучения на фоторезисте различные наноструктуры. В России есть все необходимые компоненты, которые нужно объединить в этой разработке»

Александр Сергеев

академик, научный руководитель Национального центра физики и математики

Главная проблема — недостаток критически важных компонентов: высокочистых газов, прецизионной оптики, ультрафиолетовых источников и литографических масок. Многие из них ранее закупались за рубежом, и их замена требует не только времени, но и разработки новых материалов и технологий внутри страны.

Кроме того, успех проекта зависит от способности науки, промышленности и государства действовать в единой связке — без бюрократических проволочек и разобщённости, с концентрацией усилий на конечном результате.

От технологической независимости к лидерству

Разработка собственного литографического оборудования — первый и критически важный шаг на пути к производству отечественной микроэлектроники и полной технологической независимости государства. От этого проекта зависит не только судьба российской электронной промышленности, но и способность страны сохранять суверенитет в условиях глобальной технологической конкуренции.

Через 5–7 лет Россия может выйти на выпуск литографов для производства чипов среднего технологического уровня — с нормами 65–28 нм. Такие микросхемы покрывают большинство потребностей: от телекоммуникационного оборудования до бортовых систем. Это позволит существенно снизить зависимость от импорта и открыть новые возможности для технологического партнёрства с другими государствами, а в перспективе — укрепить позиции России в глобальной микроэлектронике.