В России разработали первый отечественный фотолитограф
Технологию применяют в силовой и автоэлектронике, а также промышленных системах
Разработку первого отечественного фотолитографа с разрешением 350 нм завершили в России, сообщила пресс-служба производителя микроэлектроники «Микрон», входящего в состав группы компаний «Элемент».
Такую технологию применяют в силовой и автоэлектронике, а также промышленных системах. Фотолитограф предназначен для модернизации существующих и оснащения новых микроэлектронных производств. Серийное производство запускают Зеленоградский нанотехнологический центр и «Отраслевые решения» (группа компаний «Элемент»).
Фотолитограф создан с участием белорусской компании «Планар» и предназначен для проектных норм 350 нм, необходимых для современных и новых производств микроэлектроники. Это первый шаг в создании линейки российских литографов. В будущем планируется разработка моделей для норм 90 нм.
